本书是半导体先进光刻领域的综合性著作，介绍了当前主流的光学光刻、先进的极紫外光刻以及下一代光刻技术。主要内容涵盖了光刻理论、工艺、材料、设备、关键部件、分辨率增强、建模与仿真、典型物理与化学效应等，包括光刻技术的前沿进展，还总结了极紫外光刻的特点、存在问题与发展方向。书中融入了作者对光刻技术的宝贵理解与认识，是作者多年科研与教学经验的结晶。
本书适合从事光刻技术研究与应用的科研与工程技术人员阅读，可作为高等院校、科研院所相关领域的科研人员、教师、研究生的参考书，也可作为微电子、光学工程、微纳加工、材料工程等专业本科生的参考教材，还可为芯片制造领域的科技工作者与管理人员提供参考。